详细内容
载板电镀是一种高精度、性、高复杂度的电镀加工工艺,可以广泛应用于电子、通讯、光电、汽车等行业。掌握载板电镀的基本原理、工艺流程、适用范围和注意事项,可以有效提高金属结构的质量和生产效率。
镀层附着强度:防止镀层脱落失效
载板在封装焊接(高温)、芯片组装(应力)过程中,镀层若附着力不足会脱落,导致电气中断。
检测方法:
划格法(IPC-TM-650 2.4.29):用划格刀在镀层表面划 1mm×1mm 网格(划透至基材),贴胶带剥离后,网格内镀层脱落面积需≤5%;
剥离试验(IPC-TM-650 2.4.30):对镀层施加垂直拉力,铜镀层附着力需≥0.8N/mm(载板专用要求,高于传统 PCB 的 0.5N/mm);
热冲击试验后附着力:经 - 55℃(30min)→125℃(30min)循环 100 次后,重复上述测试,附着力衰减≤20%。
镀层微观质量:避免内部缺陷影响可靠性
载板镀层的致密度、纯度直接影响电气性能(如电阻、迁移风险)和耐腐蚀性。
孔隙率:
标准:铜镀层孔隙率≤1 个 /cm²(用酸性硫酸铜溶液测试,孔隙会析出铜粉);镍层孔隙率≤0.5 个 /cm²;
检测工具:孔隙率测试仪、SEM(观察微观孔洞)。
晶粒结构:
标准:铜镀层晶粒均匀,平均晶粒尺寸 50-200nm(晶粒过粗易导致镀层脆化,过细易产生应力);
检测工具:透射电镜(TEM)、X 射线衍射仪(XRD)。
杂质含量:
标准:高纯度铜镀层(99.99% 以上),杂质(如 Fe、Zn、Pb)总含量≤50ppm;镍镀层杂质总含量≤100ppm;
检测工具:电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)。
相比黑影/日蚀,黑孔,导电膜等其他空金属化工艺,石墨烯孔金属化工艺采用二维材料高导电-石墨烯材料作为导电材料,高导电,超薄,吸附性强;物理性吸附;
石墨烯超低固含量0.01%-0.5%,彻底避免黑影,日蚀,黑孔等工艺常见的ICD异常问题;
在导通测试中,阻值变化为1.43%,IPC标准≤10%;在极限热冲击测试中,沉铜27次,石墨烯孔金属化工艺31次;