详细内容
载板电镀是先进封装载板(如 IC 载板、扇出型封装载板等)制造中的核心工艺,其质量直接决定载板的电气性能、可靠性及封装良率。由于载板需实现高密度互连(HDI)、超细线路 / 焊盘(线宽 / 线距常<20μm)及承载芯片的高可靠性要求,其电镀工艺及质量检测标准远高于传统 PCB,核心围绕 “镀层均匀性、致密度、附着力、纯度” 四大维度展开
载板电镀核心工艺类型
在了解检测标准前,需先明确载板电镀的关键场景,不同工艺的检测重点略有差异:
种子层电镀:通常为薄层高纯度铜(1-3μm),用于后续图形电镀的导电基底,要求低电阻、无针孔;
图形电镀:核心工艺,在线路 / 焊盘区域电镀厚铜(5-20μm,甚至更高),实现电流传输与芯片键合支撑;
凸点(Bump)电镀:如铜凸点、锡凸点,用于芯片与载板的倒装焊互连,要求的高度 / 直径控制;
表面处理电镀:如镍(Ni)、钯(Pd)、金(Au)镀层(ENEPIG/ENIG 工艺),提升焊盘抗氧化性与键合可靠性。
耐环境可靠性:应对封装后长期使用场景
载板需承受高温、湿度、腐蚀等环境,镀层耐环境性决定产品寿命。
耐湿热试验:
条件:85℃、85% RH、1000h;
标准:试验后镀层无氧化、鼓泡、脱落,电气电阻变化率≤10%(IPC-J-STD-020)。
耐盐雾试验:
条件:5% NaCl 溶液、35℃、96h(针对表面处理镀层如 ENEPIG);
标准:镀层无锈蚀、变色,焊盘可焊性衰减≤15%(IPC-TM-650 2.6.11)。
焊锡耐热性:
条件:260℃焊锡浴中浸泡 10s(模拟回流焊);
标准:镀层无剥离、起泡,焊盘与焊锡结合率≥95%(IPC-A-600H)。
应用产品类型
各种材料:常规及改良聚酰亚胺,液晶材料,聚四氟乙烯,聚酯树脂,陶瓷基板等;
硬板,软板,软硬结合板,HDI, IC载板等;
尤其适合高纵横比通盲孔多层,软板多层,软硬结合板,IC载板,超细微孔/盲孔10-30微米通孔/盲孔