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主流电镀类型及应用场景
不同电镀金属的特性差异显著，需根据 PCB 的终用途选择，常见类型对比如下：
电镀类型 核心成分 关键特性 典型应用场景
酸性镀铜 硫酸铜、硫酸 镀层纯度高（99.9% 以上）、导电性好、易增厚 多层板过孔电镀（孔壁铜）、线路铜层增厚
氰化物镀银 氰化银、氰化物 导电性、焊接性好，但易硫化发黑 高频通信 PCB（如 5G 基站板）、射频电路
无氰镀银 硫代硫酸盐等 环保（无剧毒氰化物），性能接近氰化物镀银 消费电子 PCB（如手机主板）、环保要求高的场景
化学镀镍金 镍磷合金 + 纯金 耐腐蚀性强、接触电阻低、耐高温 连接器 PCB（如 USB 接口板）、按键板
热风整平（HASL） 锡铅合金（或无铅锡） 成本低、焊接适应性强，但表面平整度差 传统消费
电镀核心环节：控制镀层厚度
电解镀铜：将 PCB 作为阴极，放入酸性镀铜液中，通以直流电（电流密度 1-3A/dm²，温度 20-25℃），铜离子在阴极放电沉积，使线路和过孔铜层增厚至目标厚度（如 15-30μm）。
注：需使用 “象形阳极”（与 PCB 线路形状匹配的阳极），避免电流分布不均导致边缘镀层过厚、中间过薄。
选择性电镀（如镀镍金）：若需局部电镀（如连接器焊盘），需先贴干膜或涂阻镀漆，遮挡无需电镀区域，仅暴露目标区域进行镍金电镀（镍层 5-10μm，金层 0.1-0.5μm）。
石墨烯孔金属化工艺是与传统化学铜，黑影/日蚀等平行的线路板孔金属化技术，属于直接电镀工艺，其特点可靠，低成本，低碳环保节能降耗，可循环再利用。
相比黑影/日蚀，黑孔，导电膜等其他空金属化工艺，石墨烯孔金属化工艺采用二维材料高导电-石墨烯材料作为导电材料，高导电，超薄，吸附性强;物理性吸附;
导通能力
No ICD,IST测试(百万通孔测试) CAF测试(小间距CAF改善)
应用产品类型
各种材料:常规及改良聚酰亚胺，液晶材料，聚四氟乙烯，聚酯树脂，陶瓷基板等;
硬板，软板，软硬结合板，HDI， IC载板等;